光信号的集成分发、处理和感知网络需要基本光元件如波导、分频器、光栅和光开关的微型化。为此，必需具备能进行高分辨率制造的制作手段。曲线元件如弯曲和环形谐振器的制造尤为具有挑战性，因为他们需要更高的分辨率和较低的侧壁粗糙度。除此之外，精确控制绝对结构尺寸的制造技术也是必需的。

至今已经有一些用于亚波长高分辨率制造的技术面世，如直接激光写入法、多光子光刻法、电子束光刻法、离子束光刻法和多米诺光刻法。然而，这些技术都不免有成本高、过程复杂、费时等问题。纳米印刻光刻法是一个新兴的复制技术，非常适合高分辨率和高效率的制造。但是，它需要高质量的主印章，通常使用电子束光刻法制作。

徕布尼茨汉诺威大学的科学家雷·郑博士等人在《光：先进制造》杂志上发表了一篇新的论文，他们开发了一种低成本且用户友好的制造技术，名为UV-LED基显微投影光刻（MPP），用于在几秒钟内进行快速高分辨率制造光元件。该方法是把光掩模上的结构模式在紫外照射下转移到涂上光刻剂的基材上。

MPP系统基于标准的光学和光机械元素。与汞灯或激光相比，极低成本的UV-LED（波长为365 nm）被用作光源。

研究人员开发了一个预处理过程，以获得MPP所需的结构模式铬掩模。包括结构设计、在透明薄膜上打印、并将模式转移到铬光掩模上。他们还建立了一套光掩模制备的光刻设备。透明薄膜上打印的结构模式可以通过这套设备和随后的湿刻蚀过程转移到铬光掩模上。

MPP系统能够制造分辨率高达85 nm的光元件，这与多光子和电子束光刻等更昂贵和复杂的制造方法的分辨率相当。MPP可以用来制造微流控设备、生物传感器和其他光学设备。

该制造方法的开发是光刻领域在快速和高分辨率结构化光元件方面的一个重要进步。它特别适合快速原型制作和低成本制造十分重要的应用场合。例如，它可以用来为生物医学研究开发新的光学设备或为消费电子应用打造新的MEMS设备。

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