在科技飞速发展的今天，半导体行业正面临着一个前所未有的挑战和机遇：如何有效利用极紫外光(EUV)光刻技术，进一步缩小集成电路的尺寸。面对这一问题，加拿大的量子计算公司Xanadu与三菱化学公司宣布，他们将展开一场激动人心的合作，旨在利用量子计算技术，共同开发出新的半导体芯片制造技术，特别是探索用于模拟EUV光刻过程中量子现象的全新量子算法。

EUV光刻技术被认为是推进集成电路持续微型化的有力手段，它在智能手机、超级计算机和人工智能等现代技术中发挥着至关重要的作用。然而，随着芯片特征尺寸的进一步缩小，如俄歇衰变（Auger decay）等量子效应变得更加显著，这使得模拟这些复杂的电子相互作用变得异常困难。量子计算以其模拟量子系统动态和光-物质相互作用的天生优势，呈现出突破这一限制的可能性。

在这次合作中，三菱化学的材料设计实验室的研究人员将提供EUV光刻胶材料方面的深入专业知识，包括分子结构、组成及反应性，并对EUV吸收、俄歇衰变和次级电子效应等关键物理过程进行基础理解和定量分析。Xanadu的量子算法团队则将负责设计模拟光-物质相互作用和次级电子效应的量子模拟算法。

Xanadu公司的高级量子科学家Torin Stetina强调，“芯片微型化的持续进步依赖于EUV光刻技术和优质光刻胶材料设计上的突破。精确模拟这些材料与EUV光的相互作用仍然是一个巨大挑战。利用量子计算机来模拟这些相互作用是解决这一问题的一个令人兴奋的新途径，为未来半导体世代揭示材料属性提供了可能。”

同时，加拿大驻日本大使馆商务部部长Louis-Pierre Émond表示，“作为全球量子科学与技术的领导者，加拿大对此次Xanadu与三菱化学之间的合作感到非常高兴。”

此次合作标志着量子计算在半导体材料领域的首次具体应用案例。发现能够模拟与半导体光刻相关的光-物质相互作用的量子算法，对于Xanadu建立对全球公众有用的量子计算机的使命来说，是一个宝贵的进步。

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