海德堡仪器近期对其著名的DWL 66+直写微影系统进行了显著的性能提升，进一步巩固了其作为微制造研究工具的领先地位。该系统现在提供业界领先的最小特征尺寸200纳米，以及拥有65,536级灰度能力的高级灰度功能，赋予研究人员在多个维度推动创新的能力。

新推出的高分辨率模式，Write Mode XR，实现了分辨率、质量和速度的无与伦比的结合。它的200纳米最小特征能力使得制造复杂的微观和纳米结构成为可能，使得在量子设备、光学和光子学等领域的应用不再需要耗时的电子束光刻技术。这一进步加速了开发周期，并释放了成本高昂的电子束系统，以便它们能够被用于最具挑战性的任务。

作为高分辨率的补充，系统的专业级灰度微影技术具有前所未有的65,536强度级别，DWL 66+能够在高达150微米厚的光阻中创造出细致的2.5D微结构，如微透镜和其他微光学设备，表面平滑度出色。

经过30年的持续发展和超过400台的安装实践，DWL 66+已被证明是一个成熟、坚固且极具灵活性的平台，适用于研发和快速原型制作。这些最新的增强功能进一步提升了其价值，为用户提供了极高分辨率和操作灵活性的强大组合。

英特尔 Core i7 适用于高性能计算机
AMD Ryzen 9 适用于游戏和内容创作
NVIDIA RTX A6000 适用于专业图形设计
Apple M1 适用于轻薄型笔记本电脑
Qualcomm Snapdragon 888 适用于智能手机
Samsung Exynos 2100 适用于移动设备