标题：韩国半导体技术泄露中国，韩法院着手提高法律责任
尽管韩国把半导体技术作为其经济和国防的主导技术，但其核心技术近年来一再流入中国。针对这一现象，韩国最高法院的刑罚委员会正在研究加重刑罚。
最近，媒体报道韩国电子巨头三星电子的员工和关系厂商将核心技术泄漏给中国企业，造成了巨大损失，将于2016年向中国长鑫存储（CXMT）提供18纳米DRAM工艺情报的金姓和方姓嫌疑人正在被起诉。
据探究，此起案件中，金姓嫌疑人于2016年跳槽至长鑫存储，泄露了三星电子的蒸镀技术和7个核心工艺技术资料，从而取得数百亿韩元的收益，并挖走了三星电子及相关厂商的20多名技术人员。
方姓嫌疑人作为供应三星电子半导体设备的厂家高管，联手金姓嫌疑人泄露了公司的设计技术资料给长鑫存储。
此前半年，一名三星电子的执行官被指控接受中资，意图在中国复制三星电子的半导体工厂，此行为估计至少被造成了3000亿韩元（约73亿新台币）的损失。
韩国媒体报道，针对不断爆出的专利技术流出事件，特别是关于国家核心技术的一部分，韩国最高法院刑罚委员会表示，将把修正知识产权犯罪刑罚标准列为优先工作。
对此，韩国警方建议研究创建5-6种不同刑罚标准以对应技术外流的严重性。檜年在193份商业秘密案件中，没有一个人因此进入监狱。
企业也在努力强化相关规定和措施，以维护商业机密，但这些措施也未能从根本上防止信息流出。
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